第二百六十四章 水的奥秘（2/4）
未来想要缩小刻蚀的分辨率，甚至还要继续上14nm的极紫外光。至于10纳米以下，可能人类的科技就已经研究出其他的加工方式了吧。
当然这些只是不准确的科普说法，如果具体要解释一下光波和刻蚀分辨率的关系，或者解释一下照准系统的最大分辨率概念之类的……
本书的长度恐怕会有些不足，以及略有骗稿费的嫌疑。虽然这些知识如果真的讲出来千字3分就太便宜了。本着经不轻传的道理（其实作者也不懂）就不多说了。
言归正传，涂岸北脑海中灵光一现，正是水的一种特性。那就是光通过液体介质后光源波长就会缩短。其缩短的倍率即为液体介质的折射率。也就是说光刻机的光源如果在照射到光刻胶之前先在水中穿行一次，就相当于换了一个更细的刻刀。
而水的折射率是1.44，当0.8微米波长的光线穿过水之后，0.8除以1.44岂不正是0.56微米？如果这项技术真的有可行性。那确实是可以在不提高精密制造水平的前提下，得到更高一代的芯片制程技术。
这么简单的原理，周硕当然不是第一个想到的。用水缩短光源的波长来提高制程工艺。是未来光刻机普遍采用的技术。也就是学名叫做沉浸式光刻机的设备。通过不断努力，未来的光刻机早就已经实现了这项技术。不仅是折射率1.44的水。更开发出折射率更高的液体。沉浸液成为镜片和光源之外，第三个能够快速减小线宽的因素。
“怎么样。大家现在还有什么疑问没有？”
在场的十四个研发人员都是周硕一手挑出来的大才，谁的心思不是一点就透。有几个甚至就是中科院里，参加了0.8微米全套工艺开发的研究员。他只是透出一点话头，这群人的眼睛立刻就亮了起来。
使用水作为沉浸液还面临着很多的问题，比如说光刻胶的溶解、水中的杂质和稳定性，蒸发扰动以及水中气体的去除……
但这些问题和提高精密制造水平，根本不可同日而语。精密制造那是拼基础积累的领域，但拼化学和系统设计，中国人可是太有信心了。
传承自苏联的中国科学家，在系统设计方面可是深谙如何用巧妙方法克服困难要求的。至于某些方面技不如人的自卑，那就完全没有必要了。这种处境既可以叫穷国的无奈，也可以叫发展中国家的后发优势，全看人们从什么角度解读了。
以中国未来取得的成就来看，大可自豪的说是属于后一种角度。
“唔，我看
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